為了制造半導體，俄羅正在進行生產芯片的斯年光刻機的開發工作。產業部副部長vasily shpak表示，將制將從2024年開始生產350納米的光m光光刻機，到2026年開始生產130納米的刻機刻機pony grapher。pony grapher的年生生產將在莫斯科、澤爾諾格勒、俄羅圣彼得堡、斯年新西伯利亞的將制現有工廠進行。

vasily shpak在采訪中表示，光m光生產——設備的刻機刻機公司只有日本的尼康和荷蘭的asml兩家公司。

對于半導體技術的年生重要性，vasily shpak表示：“單純的俄羅邏輯鏈：如果沒有微電子主權，就沒有技術主權，斯年國防安保和政治主權也會減弱。將制”

目前，俄羅斯雖然擁有利用外國制造設備的65納米技術，但不能生產光刻機。在現代光刻設備的情況下，外國企業被禁止出口之后，俄羅斯正在忙于自身的生產設備開發。

Vasily Shpak表示，計劃到2024年為止，向國內電子產品開發投資2114億盧布。

shpak表示，350納米至65納米進程用于微控制器、電力電子、通信電路和汽車電子，這些應用約占市場的60%。專家表示，該技術在世界范圍內需求很大，至少會持續10年。

當被問及有什么反作用時，vasily shpak回答說：“我不想抱怨。所有的問題都不是問題。因為這關系到我們有什么機會要做什么。“