光刻機是無需半導體芯片生產過程中的關鍵設備，光刻機所使用的從荷出口光源波長直接決定著芯片的工藝級別。例如，中國證目前最先進的刻機芯片制程7nm\5nm等，都離不開EUV極紫外光刻機，無需而這種光刻機的從荷出口全球唯一供應商就是荷蘭阿斯麥ASML。
最近，中國證據同花順財經消息，刻機 荷蘭阿斯麥 ASML 首席財務官 Roger Dassen 在財報會議的無需視頻采訪中談及了與中芯國際等中國客戶的業務情況。
Roger Dassen 表示，從荷出口如果廣泛地來理解美國規章制度對 ASML 的中國證總體含義(對于特定的中國客戶)，則意味著 ASML 將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供 DUV 光刻系統，刻機且無需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國運往此類客戶的零件或系統，ASML 則需要為此申請出口許可證。
21ic家注意到，最近，ASML公布了其第三季度財報，在該季度ASML一共交付了10臺EUV系統，并實現了14臺系統的銷售收入，總銷售額達到40億歐元。同時，第三季度的新增訂單達到29億歐元，其中5.95億歐元來自4臺EUV設備。
財報中還公布了其兩大系列光刻機產品的最新進展。
其中，在EUV光刻業務領域，絕大部分TWINSCAN NXE:3400B系統在客戶處同時進行了生產率模組的升級。同時，ASML還公布了其EUV路線圖上的最新機型：TWINSCAN NXE：3600D，該EUV光刻機實現了30mJ/cm2的曝光能量達到每小時160片晶圓，生產率提高了18%，并改進了機器匹配套刻精度至1.1納米。該新型EUV光刻機預計2021年中期開始發貨。
在DUV光刻業務領域，ASML在本季度對第一臺TWINSCAN NXT：2050i進行了質量認證，并于第四季度初發貨。NXT：2050i是基于NXT平臺的新版本，其中包括掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術改進。由于采用了這些創新，該系統提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產率。NXT：2050i已進入批量生產階段。
