久日新材在投資者互動平臺表示，國產光刻公司正在開發KrF、膠實ArF和EUV光刻膠所需的現多項突光致產酸劑產品。美國最近將多家中國科技公司列入“實體清單”，破政進一步強化對華科技圍堵。策助在此背景下，力技中國各部委密集出臺政策支持光刻膠技術突破與產業鏈自主可控。術飛

《國家集成電路產業投資基金三期規劃》明確將光刻膠等半導體材料列為重點投資領域，國產光刻計劃投入超過500億元支持關鍵材料研發及產業化。膠實科技部“十四五”新材料專項提出，現多項突到2025年實現KrF/ArF光刻膠國產化率提升至10%，破政并布局EUV光刻膠預研，策助設立專項經費超過20億元。力技工信部的術飛《新材料產業高質量發展行動計劃》要求重點突破光刻膠樹脂、光敏劑等核心原料技術，國產光刻并對通過驗證的企業給予稅收減免及設備采購補貼。

在政策的支持下，中國企業在國產光刻膠上取得了多項突破。2024年，湖北某半導體材料公司自主研發的ArF/KrF光刻膠通過客戶評估，獲得兩家晶圓廠訂單，總額超過100萬元，實現了從原材料到成品的全流程國產化。2025年恒坤新材將從科創板IPO募資15億元，投向安徽生產基地，其KrF光刻膠已批量供應12英寸產線，覆蓋7nm工藝，預計2025年底產能將達到500噸/年。

光大證券分析，當前中國KrF/ArF光刻膠國產化率不足5%，EUV光刻膠仍依賴進口。機構預期2025-2030年國產替代率將每年提升3-5個百分點，帶動本土企業營收增長超50%。據SEMI測算，2025年全球光刻膠市場規模將達到150億美元，其中中國占比超過30%，年復合增長率約為12%。

截至2025年3月，Wind光刻膠指數動態市盈率約為45倍，低于半導體設備（60倍）和芯片設計（55倍），部分龍頭公司估值處于歷史低位。可以關注在光致產酸劑、樹脂等環節取得突破的公司。