光刻膠是影響集成電路生產制造的核心材料，也是國產光刻微電子技術的微細圖形加工的關鍵材料之一。光刻膠的膠迎質量與性能對芯片的成品、性能具有至關重要的首條生產影響，更是線對芯片集成電路生產制造中產業鏈中技術門檻最高的微電子化學品之一，也是制造重當前電子領域中重要的基礎應用材料之一。
多年來，產生光刻膠研發被列入我國高新技術計劃、影響重大科技項目。國產光刻今年9月28日，國家發展改革委、科技部、工業和信息化部以及財政部聯合印發的《關于擴大戰略性新興產業投資培育壯大新增長點增長極的指導意見》中明確提出，要加快在光刻膠、高強高導耐熱材料、耐腐蝕材料等領域實現突破。
自美國接二連三在半導體領域發起出口限制，我國半導體國產化進程也備受關注。而事實上，當前我國在半導體的設計、封測以及制造三大關鍵程序已有了初步的發展。近日，芯片生產的關鍵材料——光刻膠領域迎來了一則好消息，預計將對我國7nm芯片生產帶來重大突破。
早期油墨感光產品所用的配方均依賴進口，一旦供給端出現問題，生產就會陷入被動。但自主創新走起來又非常難，特別是國內起步晚，很多技術都被外國壟斷。在實現從“0到1”的突破中，我國企業面對重大阻力，一方面來自外部環境，當時業內領先企業大多向海外購買成熟配方直接投產，以便迅速搶占市場;另一方面來自企業內部，不僅關鍵技術研發遭遇瓶頸，而且研發出的產品屢屢遭受市場質疑。
幸運的是，近年來國家生態文明建設力度不斷加大，為公司帶了發展機遇。面對日益嚴格的環保核查，國產產品以優異的性價比打開了市場銷路，逐步占據了一定市場份額。
而我國寧波南大光電材料有限公司(以下簡稱“南大光電”)公開宣布，該司首條ArF光刻膠生產線已正式投產，估計項目完全達產后年銷售額將達10億元。目前南大光電已將這款ArF(193nm)光刻膠的樣品已經送到客戶手上進行測試，預計將會收到更多訂單。
光刻膠是生產制造集成電路的核心材料，主要起到將作用“將設計的圖像從模板中轉移到晶圓表面合適的位置”的作用。因此，光刻膠的質量和性能對芯片最終的成品、性能等具有重要影響。要知道，雖然我國不乏光刻膠生產企業，但是主要都集中于G線(436nm)、I線(365nm)等低端品種，ArF光刻膠等高端種類幾乎100%依賴進口。
2019年，我國光刻膠市場本土企業的銷售規模達到70億元，在全球占據了約10%的市場份額。然而，若進一步劃分到高端市場，就會發現，當前全球高端光刻膠制造有95%集中在美國和日本企業手上，日本信越化學、東京日化等企業在這其中尤為突出，壟斷了將近90%高端光刻膠市場。
意識到我國在高端半導體材料領域的不足，近年來我國企業晶瑞股份、上海新陽以及上文提及的南大光電也在積極鉆研，試圖打破美日企業的壟斷。其中，早在2017年，南大光電就將“ArF193nm光刻膠項目”的開發提上日程。另外，晶銳股份則選擇了借用“外力”發展高端光刻膠。
今年9月下旬，晶瑞股份發布了一則令業界“為之沸騰”的消息，該司將通過代理商(Singtest Technology PTE.LTD.)從韓國半導體生產商SK海力士(SK Hynix)手上購買一臺ASML光刻機設備。業內人士指出，這臺光刻機的總價值約為1102.5萬美元(折合約7523萬元人民幣)，是一臺“二手貨”。按照計劃，晶瑞股份將此工具用于高端光刻膠的生產。
要知道，ArF光刻膠對28nm到7nm工藝的芯片生產具有關鍵作用。而截至目前，我國最大的芯片代工商——中芯國際最先進的芯片制程也才達到了14nm。考慮到美國自9月中旬就頒布了芯片配件的出口新規，再加上荷蘭巨頭ASML的EUV光刻機遲遲未到貨，中芯國際的芯片制程發展也受到一定束縛。
如今，憑借多年自主研發和實踐積累，我國企業已逐步掌握了樹脂合成、光敏劑合成、配方設計及制造工藝控制等電子感光化學品核心技術，陸續推出了多種處于行業領先地位的PCB感光油墨產品，可有效提高電子線路圖形精確度，降低產品次品率，同時可適應PCB技術向高密度、高精度、多層化發展的趨勢。而我國供應商在光刻膠領域取得重大突破，意味著中芯國際在半導體材料供應商又多了一層保障。
