7月5日-7月8日，相約KLA Instruments將亮相2025中國(guó)材料大會(huì)China Materials Conference
“中國(guó)材料大會(huì)”是中國(guó)中國(guó)材料研究學(xué)會(huì)的學(xué)術(shù)年會(huì)，是材料重要的系列品牌會(huì)議之一，是相約中國(guó)新材料界學(xué)術(shù)水平很高、涉及領(lǐng)域很廣、中國(guó)前沿動(dòng)態(tài)很新的材料超萬(wàn)人學(xué)術(shù)大會(huì)，是相約面向國(guó)家重大需求、推動(dòng)新材料前沿重大突破的中國(guó)高水平品牌大會(huì)。
本屆大會(huì)將涵蓋能源材料、材料環(huán)境材料、相約先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料、中國(guó)功能材料、材料材料設(shè)計(jì)制備與評(píng)價(jià)等5大類主題，相約舉辦特色論壇，中國(guó)包括青年論壇、材料特色新材料論壇、材料教育論壇、材料期刊論壇等， 并同期舉行國(guó)際新材料科研儀器與設(shè)備展覽會(huì)。
KLA Instruments將借此次機(jī)會(huì)展出納米壓痕儀，光學(xué)輪廓儀，探針式輪廓儀，方塊電阻測(cè)量?jī)x等多款重點(diǎn)機(jī)型，并由資深產(chǎn)品市場(chǎng)經(jīng)理帶來(lái)精彩的報(bào)告，期待您的蒞臨。
展會(huì)時(shí)間：2025年7月5-8日
展會(huì)地點(diǎn)：廈門國(guó)際會(huì)展中心
展位號(hào)：T028
演講主題：濺射制備的ITO薄膜中厚度對(duì)殘余應(yīng)力演化的研究
演講嘉賓：曾佳宇 產(chǎn)品市場(chǎng)經(jīng)理
演講時(shí)間：2025年7月7日 1720
演講地點(diǎn)：廈門國(guó)際會(huì)議中心-2E01
曾佳宇PROFILE
KLA Instruments 產(chǎn)品市場(chǎng)經(jīng)理
曾佳宇，產(chǎn)品市場(chǎng)經(jīng)理，2015年獲英國(guó)倫敦大學(xué)瑪麗女王學(xué)院材料科學(xué)專業(yè)碩士學(xué)位，2017年加入KLA 科磊半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)上海有限公司至今，長(zhǎng)期從事非接觸式光學(xué)輪廓儀設(shè)備的技術(shù)開發(fā)與支持工作，其中包括白光干涉和共聚焦量測(cè)技術(shù)，這些技術(shù)在硅基半導(dǎo)體，化合物半導(dǎo)體以及太陽(yáng)能電池片制造方面都得到廣泛的應(yīng)用。積累了豐富的測(cè)量經(jīng)驗(yàn)和客戶案例。
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演講主題：
氧化銦錫（ITO）薄膜中應(yīng)力隨厚度變化的研究綜述
背景
透明導(dǎo)電薄膜在半導(dǎo)體器件中有廣泛應(yīng)用，包括太陽(yáng)能電池、液晶顯示器、發(fā)光二極管以及各種傳感器等。氧化銦錫(ITO)憑借其優(yōu)異的電導(dǎo)率、光學(xué)透明性和非線性的特性被廣泛用作透明層。濺射法因能生成結(jié)構(gòu)致密且高透射率的薄膜，在沉積ITO薄膜時(shí)備受青睞。
在薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中，誘導(dǎo)的應(yīng)力會(huì)影響器件的制造和性能：
- 應(yīng)力引起的晶圓翹曲會(huì)影響器件的平整度及后續(xù)生產(chǎn)工藝;
- 薄膜應(yīng)力可能改變器件的物理特性，從而影響其可靠性。
實(shí)驗(yàn)概述
首先，使用 KLA Instruments 的Filmetrics F50-UVX薄膜厚度測(cè)量?jī)x測(cè)量了九種不同厚度的ITO薄膜。隨后，使用KLA Instruments的探針式輪廓儀HRP-260（臺(tái)階儀）測(cè)量晶圓翹曲和應(yīng)力（見圖1）。在晶圓翹曲測(cè)量中，系統(tǒng)在每次掃描后自動(dòng)旋轉(zhuǎn)樣品，生成三維（3D）翹曲圖，并通過(guò)Stoney方程自動(dòng)計(jì)算三維應(yīng)力圖（見圖2）。接著，通過(guò)原子力顯微鏡（AFM）評(píng)估沉積薄膜的晶粒結(jié)構(gòu)（見圖3和圖4）。最后，使用KLA Instruments的Nano Indenter G200X 納米壓痕儀進(jìn)行納米壓痕測(cè)試以評(píng)估ITO薄膜的彈性模量。
圖示說(shuō)明
圖1：（a）ITO（14nm）/玻璃的3D翹曲圖；（b）ITO（559nm）/玻璃的3D翹曲圖；（c）ITO厚度從14到559nm的ITO/玻璃的2D翹曲圖；（d）兩次不同時(shí)間點(diǎn)測(cè)得的翹曲與厚度關(guān)系。
圖2：不同厚度下ITO/玻璃的3D應(yīng)力圖（a）dITO=14nm;（b）dITO=45nm;（c）dITO=180nm;（d）dITO=559nm;（e）ITO薄膜的應(yīng)力與厚度的關(guān)系圖。
圖3：(a)-(d)不同ITO厚度下ITO/玻璃的AFM圖像；(e)-(h)使用Apex分析軟件進(jìn)行晶粒尺寸分析。
圖4：晶粒尺寸和表面粗糙度隨ITO厚度的變化。
結(jié)果總結(jié)
研究表明，隨著ITO薄膜厚度的增加，應(yīng)力類型從拉應(yīng)力轉(zhuǎn)變?yōu)閴簯?yīng)力。AFM分析顯示ITO薄膜表面呈三維生長(zhǎng)模式，沉積過(guò)程中晶粒結(jié)構(gòu)由等軸晶向柱狀晶轉(zhuǎn)變。
進(jìn)一步分析發(fā)現(xiàn)，拉應(yīng)力來(lái)源于新形成的等軸晶粒的碰撞與聚合。隨著薄膜厚度增加，等軸晶粒數(shù)量減少，壓應(yīng)力逐漸占主導(dǎo)。壓應(yīng)力則歸因于柱狀晶粒邊界中多余物質(zhì)的摻入。
